据中电网报道，飞思卡尔首席技术官Lisa Su在2007年11月28日深圳飞思卡尔技术论坛上公布，飞思卡尔已经拥有成熟的45纳米技术，这将促使公司从90纳米跨越65纳米技术阶段，直接进入45纳米时代。
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Lisa Su表示，飞思卡尔的45纳米工艺已经是成熟工艺，无需再经过65纳米工艺阶段进行过渡。在45纳米工艺大批量生产后，飞思卡尔将快速走入32纳米时代。

当飞思卡尔跨越65纳米技术，进入45纳米甚至32纳米技术时，能够取得功耗更低、静态漏电更低，并能使静态漏电不变的情况下实现更高性能的优势。

飞思卡尔从90纳米工艺导入到45纳米工艺，芯片性能将提高40%。同时，芯片尺寸、功耗、成本都将大幅下降。